[发明专利]一种化学溶液沉积制备Gd2Zr2O7缓冲层的方法有效
申请号: | 201210318922.8 | 申请日: | 2012-09-03 |
公开(公告)号: | CN102851655A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 雷鸣;赵勇;武伟;蒲明华;张勇 | 申请(专利权)人: | 西南交通大学 |
主分类号: | C23C20/08 | 分类号: | C23C20/08 |
代理公司: | 成都中亚专利代理有限公司 51126 | 代理人: | 王岗 |
地址: | 610031 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明提供一种化学溶液沉积制备Gd2Zr2O7缓冲层的方法,其具体作法是:a、Gd2Zr2O7前驱溶液的制备:将适量的Gd(NO3)3.6H2O和ZrO(NO3)3.2H2O按照离子浓度Gd+3:Zr+4为1:1溶于羟乙基甲基醚中,加入氧化聚乙烯20000调节溶液的黏度,获得前驱溶液;b、湿膜的制备:将前驱溶液均匀涂覆在织构基带上,获得湿膜;c、干膜的制备:将湿膜进入干燥设备,去除薄膜中水份;d、分解成相:然后放入通有H2/Ar还原气氛的热处理炉内,先以1℃/min-5℃/min速率升温至350℃-600℃,让有机物和硝酸盐充分分解,后直接升温至成相高温区1100℃-1200℃,保温0.5-2小时,获得Gd2Zr2O7薄膜。该采用化学方法硝酸盐体系制作Gd2Zr2O7缓冲层成本低廉、工艺简单、操作容易控制、不污染环境,有利于大规模工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 溶液 沉积 制备 gd sub zr 缓冲 方法 | ||
【主权项】:
一种化学溶液沉积制备Gd2Zr2O7缓冲层的方法,其特征在于:依次由以下步骤构成:a、Gd2Zr2O7前驱溶液的制备:将Gd (NO3)3.6H2O和ZrO(NO3)3.2H2O按照离子浓度Gd+3:Zr+4为1:1溶于羟乙基甲基醚中,加入氧化聚乙烯20000调节溶液的黏度,获得前驱溶液;b、湿膜的制备:将所获得的前驱溶液均匀涂覆在织构基带上,获得湿膜;c、干膜的制备:将湿膜进入恒温干燥设备,完全去除薄膜中水份;d、分解成相:放入通有H2/Ar还原气氛的热处理炉内,先在1℃/min‑5℃/min速率范围升温至350℃-600℃,让有机物和硝酸盐充分分解,后直接升温至成相高温区1100℃-1200℃,保温0.5-2小时,获得Gd2Zr2O7薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C20-00 通过固态覆层化合物抑或覆层形成化合物悬浮液分解且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C20-02 .镀金属材料
C23C20-06 .镀金属材料以外的无机材料
C23C20-08 ..镀化合物、混合物或固溶体,例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C20-04 ..镀金属
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