[发明专利]基板处理装置和基板处理方法有效
申请号: | 201210320645.4 | 申请日: | 2012-08-31 |
公开(公告)号: | CN102974500A | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 中岛丈博;井上慎;原圭孝;叶瀬川泉;绪方久仁惠;森拓也 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | B05C5/00 | 分类号: | B05C5/00;B05C11/10;H01L21/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。在具有包括按照与基板的批次对应的处理液的每个种类准备的多个喷嘴的液体处理部的液体处理装置中,提供对于在液体处理部发生的故障能够抑制处理效率降低的技术。在一个批次的晶片的液体处理中使用的药液喷嘴发生故障时,停止使用与该一个批次对应的药液喷嘴,使用与该药液喷嘴不同的药液喷嘴进行处理的下一个批次的晶片进行处理。关于药液喷嘴有无故障发生的判断,依次检查已处理的各个晶片的液体处理状态以判断其是否良好,在使用相同药液喷嘴在不同的液体处理部中被处理的晶片,例如连续三次被判断为不良品时,判断为药液喷嘴发生故障。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种基板处理装置,其对从作为搬入至载体块的基板输送容器的载体送出的基板在处理块中进行液体处理,在该液体处理之后,接着在模块中进行后处理,将结束包括所述液体处理和后处理的一系列处理的基板交接给载体,该基板处理装置的特征在于,包括:液体处理部,其包括:液体处理模块,其设置于所述处理块,通过将保持基板水平的基板保护部的周围用杯体包围而形成;和按照与基板的批次对应的处理液的每个种类准备的多个喷嘴;输送机构,其用于在所述处理块内进行基板的输送;监视部,其监视所述喷嘴的处理液的喷出是否存在问题;和控制部,其输出控制信号,使得对于使用由该监视部判断为存在问题的喷嘴的基板,禁止其在该液体处理部中的液体处理,对于使用该喷嘴以外的喷嘴的基板,使其在该液体处理部中进行液体处理。
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