[发明专利]灰色调掩模的检查装置及制造方法、图案转印方法无效
申请号: | 201210323436.5 | 申请日: | 2007-12-05 |
公开(公告)号: | CN102854740A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 吉田光一郎;平野照雅 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G03F1/32;G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027;H01L21/66 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 樊建中 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在本发明的灰色调掩模的检查方法中,经由照明光学系统(2)向灰色调掩模(3)照射从光源(1)发出的规定波长的光束,经由物镜系统(4),由摄像部件(5)摄像经过灰色调掩模(3)的光束,求出摄像图像数据,根据该摄像图像数据,取得灰色调掩模的包含半透光部的区域的透过光强度分布数据。 | ||
搜索关键词: | 色调 检查 装置 制造 方法 图案 | ||
【主权项】:
一种灰色调掩模的检查方法,所述灰色调掩模用于显示装置的制造,且该灰色调掩模在透明基板上形成包含遮光部、透光部和透过曝光光的一部分的半透光部的图案,通过基于曝光装置的包含i线、h线、g线的混合曝光光,将所述图案转印到被转印体上,从而在所述被转印体上的与所述半透光部对应的部分形成膜厚比对应于所述遮光部的部分薄的抗蚀剂图案,所述灰色调掩模的检查方法的特征在于,包括:经由照明光学系统向所述灰色调掩模照射从光源发出的规定波长的光束,经由物镜系统,由摄像部件对透过了该灰色调掩模的光束进行摄像,从而求出摄像图像数据的步骤;和根据所述摄像图像数据,获取所述灰色调掩模的包含半透光部和遮光部的区域的透过光的强度分布数据,并根据获取到的强度分布数据,求出通过所述混合曝光光在所述被转印体上形成的所述抗蚀剂图案的膜厚的步骤。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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