[发明专利]实时检测铁电晶体畴反转的装置无效

专利信息
申请号: 201210327747.9 申请日: 2012-09-06
公开(公告)号: CN102866129A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 侯培培;职亚楠;孙建锋;刘立人 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01N21/45 分类号: G01N21/45
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种实时检测铁电晶体畴反转的装置,该装置包括:氦氖激光器、滤波器、平行光管、第一全反镜、第二全反镜、分光棱镜、成像透镜、CCD耦合器和计算机,本发明无接触,无破坏且具有较高分辨率,既可以准实时监测和定量分析畴结构的动态变化,又可以检测畴结构对外电场的静态响应,获取反转畴结构的二维和三维信息。
搜索关键词: 实时 检测 电晶体 反转 装置
【主权项】:
一种实时检测铁电晶体畴反转的装置,其特征在于该装置包括:氦氖激光器(1)、滤波器(2)、平行光管(3)、第一全反镜(4)、第二全反镜(5)、分光棱镜(7)、成像透镜(8)、CCD耦合器(9)和计算机(10),上述元部件的位置关系如下:氦氖激光器(1)输出的633nm光束经过滤波器(2)滤波、平行光管(3)准直后,被分光棱镜(7)分成反射光束和透射光束,该反射光束为探测光束,透射光束为参考光束,探测光束经待测的铁电晶体样品(6)形成物光波,该物光波经过第一全反镜(4)反射后,再经过铁电晶体样品(6)在所述的分光棱镜上与经过第二全反镜(5)反射的参考光束耦合干涉,经成像透镜(8)后在CCD耦合器(9)的探测面上成像为数字全息图,该数字全息图输入所述的计算机(10),进行数据处理,以获得物光波在加电场前后的相位信息,实现对诱导畴反转动态过程的检测。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210327747.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top