[发明专利]双色红外探测材料的制备方法及系统有效
申请号: | 201210328258.5 | 申请日: | 2012-09-06 |
公开(公告)号: | CN102867859A | 公开(公告)日: | 2013-01-09 |
发明(设计)人: | 周立庆;刘铭;巩锋;王经纬;王丛;孙浩 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
主分类号: | H01L31/0296 | 分类号: | H01L31/0296;H01L31/18;C30B23/02;C30B25/02 |
代理公司: | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人: | 梁军 |
地址: | 100015*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种双色红外探测材料的制备方法及系统,该方法制备双色红外探测材料需要的层数少,制备工艺简单。其制备方法包括:对InSb晶体先进行前期处理操作,获得外延级(211)晶向的InSb衬底;对所述(211)晶向的InSb衬底进行处理,获得HgCdTe分子束外延所要求的表面态;在所述(211)晶向的InSb衬底上进行CdTe缓冲层的生长;然后再进行HgCdTe薄膜的生长;在保护气体条件下,将生长后的所述HgCdTe薄膜加热到预定温度200-300℃,保温时间为16-30小时,降温得到双色红外探测材料;双色红外探测材料的制备系统包括:处理设备、分子束外延系统和热处理设备。 | ||
搜索关键词: | 红外 探测 材料 制备 方法 系统 | ||
【主权项】:
双色红外探测材料的制备方法,其特征在于,制备方法包括:对InSb晶体先进行切、磨和抛光处理操作,获得外延级(211)晶向的InSb衬底;对所述(211)晶向的InSb衬底进行处理,获得HgCdTe分子束外延所要求的表面态;在所述(211)晶向的InSb衬底上进行CdTe缓冲层的生长;然后再进行HgCdTe薄膜的生长;在保护气体条件下,将生长后的所述HgCdTe薄膜加热到预定温度200‑300℃,保温时间为16‑30小时,降温得到双色红外探测材料。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的