[发明专利]双色红外探测材料的制备方法及系统有效

专利信息
申请号: 201210328258.5 申请日: 2012-09-06
公开(公告)号: CN102867859A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 周立庆;刘铭;巩锋;王经纬;王丛;孙浩 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
主分类号: H01L31/0296 分类号: H01L31/0296;H01L31/18;C30B23/02;C30B25/02
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心 11010 代理人: 梁军
地址: 100015*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种双色红外探测材料的制备方法及系统,该方法制备双色红外探测材料需要的层数少,制备工艺简单。其制备方法包括:对InSb晶体先进行前期处理操作,获得外延级(211)晶向的InSb衬底;对所述(211)晶向的InSb衬底进行处理,获得HgCdTe分子束外延所要求的表面态;在所述(211)晶向的InSb衬底上进行CdTe缓冲层的生长;然后再进行HgCdTe薄膜的生长;在保护气体条件下,将生长后的所述HgCdTe薄膜加热到预定温度200-300℃,保温时间为16-30小时,降温得到双色红外探测材料;双色红外探测材料的制备系统包括:处理设备、分子束外延系统和热处理设备。
搜索关键词: 红外 探测 材料 制备 方法 系统
【主权项】:
双色红外探测材料的制备方法,其特征在于,制备方法包括:对InSb晶体先进行切、磨和抛光处理操作,获得外延级(211)晶向的InSb衬底;对所述(211)晶向的InSb衬底进行处理,获得HgCdTe分子束外延所要求的表面态;在所述(211)晶向的InSb衬底上进行CdTe缓冲层的生长;然后再进行HgCdTe薄膜的生长;在保护气体条件下,将生长后的所述HgCdTe薄膜加热到预定温度200‑300℃,保温时间为16‑30小时,降温得到双色红外探测材料。
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