[发明专利]一种二氧化硅减反射膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 201210328686.8 申请日: 2012-09-06
公开(公告)号: CN102838287A 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 王启;谢光明;张英超 申请(专利权)人: 北京市太阳能研究所集团有限公司
主分类号: C03C17/23 分类号: C03C17/23
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王朋飞;张庆敏
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种二氧化硅减反射膜的制备方法,包括步骤:1)用提拉镀膜的方法将硅酸盐溶液镀在玻璃表面;2)镀膜后的玻璃在100-120℃下烘烤20-30min;3)浸蚀:烘烤后的玻璃在95-98%重量比例的硫酸中浸蚀;4)烧结:硫酸浸蚀后的玻璃在200-500℃下烧结。本发明提出的方法所制备的覆有二氧化硅减反射膜的玻璃,其透过率在原有基础上提高了4~5%。制备的减反射硼硅玻璃在250~2500nm范围内均具有显著的增透效果,玻璃透过率由91.4%提高到96.1%,整体提高了4.7%,具有优异的减反射效果。
搜索关键词: 一种 二氧化硅 减反射膜 制备 方法
【主权项】:
一种二氧化硅减反射膜的制备方法,包括步骤:1)镀膜:用提拉镀膜的方法将硅酸盐溶液镀在玻璃表面;2)烘烤:镀膜后的玻璃在100‑120℃下烘烤20‑30min;3)浸蚀:烘烤后的玻璃在95‑98%重量比例的硫酸中浸蚀;4)烧结:硫酸浸蚀后的玻璃在200‑500℃下烧结。
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