[发明专利]铜及铜合金的蚀刻液组合物及蚀刻方法在审
| 申请号： | 201210330502.1 | 申请日： | 2012-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN102995021A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 高桥 秀树 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;H01L21/3213 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人： | 孟桂超;张颖玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种蚀刻液组合物以及使用该蚀刻液组合物的蚀刻方法。所述蚀刻液组合物以良好的精度对含有铜层以及铜氧化物层和/或铜合金层的金属层压膜进行蚀刻加工，形成优异的截面形状，并且实用性优异，稳定因而使用期限较长。本发明涉及一种蚀刻液组合物及蚀刻方法。所述蚀刻液组合物用于蚀刻含有铜层以及铜氧化物层和/或铜合金层的金属层压膜，且所述蚀刻液组合物含有0.1～80重量％的过硫酸盐溶液和/或过硫酸溶液、0.1～80重量％的磷酸以及0.1～50重量％的硝酸和/或硫酸，通过进一步添加氯离子和铵离子，能够容易地控制蚀刻率和截面形状。 | ||
| 搜索关键词： | 铜合金 蚀刻 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种蚀刻液组合物，用于蚀刻金属层压膜，所述金属层压膜含有铜层以及铜氧化物层和/或铜合金层，所述铜合金层不包括铜与钼形成的铜合金、铜与钛形成的铜合金、铜与铬形成的铜合金，所述蚀刻液组合物含有0.1～80重量％的过硫酸盐溶液和/或过硫酸溶液、0.1～80重量％的磷酸以及0.1～50重量％的硝酸和/或硫酸。
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