[发明专利]大面积薄膜沉积设备无效
| 申请号： | 201210330664.5 | 申请日： | 2012-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN102851653A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 胡安红;张津燕;徐希翔;李沅民;单洪青 | 申请（专利权）人： | 福建铂阳精工设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种大面积薄膜沉积设备，包括腔体和腔体内部的平行放置的激励电极板和接地电极板、射频电源、进气管路以及排气阀门，基板位于接地电极板表面，所述激励电极板面向接地电极板的表面为具有高斯分布形状的曲面。本发明大面积薄膜沉积设备能够提高快速沉积大面积微晶硅薄膜的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 大面积 薄膜 沉积 设备 | ||
【主权项】：
一种大面积薄膜沉积设备，包括腔体和腔体内部的平行放置的激励电极板和接地电极板、射频电源、进气管路以及排气阀门，基板位于接地电极板表面，其特征在于：所述激励电极板面向接地电极板的表面为具有高斯分布形状的曲面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建铂阳精工设备有限公司，未经福建铂阳精工设备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210330664.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种气阻缓冲前减震器
- 下一篇：一组羌活痹痛片
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
