[发明专利]一种Co掺杂NiO纳米片阵列薄膜电极的制备方法有效
申请号: | 201210331401.6 | 申请日: | 2012-09-09 |
公开(公告)号: | CN102856076A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 李纲;张文彦;李广忠 | 申请(专利权)人: | 西北有色金属研究院 |
主分类号: | H01G9/042 | 分类号: | H01G9/042 |
代理公司: | 西安创知专利事务所 61213 | 代理人: | 谭文琰 |
地址: | 710016*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种Co掺杂NiO纳米片阵列薄膜电极的制备方法,该方法为:一、将NiCo合金基片机械加工后打磨光亮,超声除油,去离子水清洗后自然风干;二、将NiCo合金基片置于水热反应釜中进行热处理,得到含Co的NiO纳米片阵列薄膜;三、焙烧得到Co掺杂NiO纳米片阵列薄膜电极。本发明工艺步骤简单,劳动强度低,具有环境友好、制备成本低和可工业放大的优势,制备的Co掺杂NiO纳米片阵列薄膜作为超级电容器的正极材料使用时,其比电容是未经改性的NiO纳米片阵列薄膜的2.5~3.8倍,电化学性能得到大幅提升,尤其是当放电电流密度提高20倍时,其比电容量仍能得到较好维持。 | ||
搜索关键词: | 一种 co 掺杂 nio 纳米 阵列 薄膜 电极 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种Co掺杂NiO纳米片阵列薄膜电极的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:步骤一、将厚度为100μm~300μm的NiCo合金基片机械加工成面积为3cm2~6cm2的片状,然后依次用150#、600#、1000#砂纸打磨光亮,再将打磨后的NiCo合金基片依次经有机溶剂超声除油和去离子水清洗后自然风干;所述NiCo合金基片中Co的质量含量为0.5%~5%;步骤二、将步骤一中自然风干后的NiCo合金基片平放在聚四氟乙烯平台上,然后一同置于容积为300mL~500mL的带四氟乙烯内衬的水热反应釜中,向水热反应釜和聚四氟乙烯平台之间的空隙中添加10mL~30mL去离子水,最后将水热反应釜密封后置于烘箱内,在温度为160℃~180℃的条件下利用蒸汽对NiCo合金基片进行3h~20h的热处理,得到含Co的NiO纳米片阵列薄膜;步骤三、将步骤二中所述含Co的NiO纳米片阵列薄膜置于马弗炉中焙烧,得到Co掺杂NiO纳米片阵列薄膜电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西北有色金属研究院,未经西北有色金属研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210331401.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:新型双栅三端Ⅲ族氮化物增强型HEMT器件
- 下一篇:电源装置