[发明专利]硼铝共掺背面场硅太阳能电池及其制备方法无效
申请号: | 201210333056.X | 申请日: | 2012-09-10 |
公开(公告)号: | CN102832268A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
发明(设计)人: | 范玉杰;韩培德;梁鹏;邢宇鹏;叶舟;胡少旭 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L31/0288 | 分类号: | H01L31/0288;H01L31/068;H01L31/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种硼铝共掺背面场硅太阳能电池,包括:一p型硅衬底;一n型发射极,该n型发射极位于p型硅衬底上;一迎光面钝化层,该迎光面钝化层生长在n型发射极上,该迎光面钝化层上开有电极窗口;一金属栅线电极,该金属栅线电极制作在迎光面钝化层上的电极窗口内,该金属栅线电极与n型发射极接触;一硼铝共掺背面场,该硼铝共掺背面场制作在p型硅衬底的下面;一金属背电极,该金属背电极制作在硼铝共掺背面场的下面。本发明可以通过硼离子注入和硅铝合金相结合的方法来实现背面场的硼铝共掺,可以提高背面场的掺杂浓度,降低背表面的复合速度,从而提高太阳能电池的开路电压。具有易实现、成本低、效果好的优点。 | ||
搜索关键词: | 硼铝共掺 背面 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种硼铝共掺背面场硅太阳能电池,包括:一p型硅衬底;一n型发射极,该n型发射极位于p型硅衬底上;一迎光面钝化层,该迎光面钝化层生长在n型发射极上,该迎光面钝化层上开有电极窗口;一金属栅线电极,该金属栅线电极制作在迎光面钝化层上的电极窗口内,该金属栅线电极与n型发射极接触;一硼铝共掺背面场,该硼铝共掺背面场制作在p型硅衬底的下面;一金属背电极,该金属背电极制作在硼铝共掺背面场的下面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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