[发明专利]硬盘用基板用研磨液组合物、基板的研磨方法和制造方法有效
申请号: | 201210334863.3 | 申请日: | 2006-08-02 |
公开(公告)号: | CN102863943A | 公开(公告)日: | 2013-01-09 |
发明(设计)人: | 山口哲史 | 申请(专利权)人: | 花王株式会社 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14;B24B37/00;B24B37/04;G11B5/84 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种硬盘用基板用研磨液组合物,该研磨液组合物含有二氧化硅、酸、表面活性剂和水,其中(a)25℃时酸在水中的溶解度大于等于1g/100g饱和水溶液,(b)表面活性剂为以下述通式(1)所示的磺酸或其盐,且(c)研磨液组合物的pH值为0~4,所述表面活性剂的含量为0.005~2重量%,通式(1)中,R表示碳原子数为6~20的全氟烃基,X表示从芳香烃的芳香环去掉2个氢原子后的残基,n表示0或1。本发明还提供使用上述研磨液组合物来研磨、制造基板的方法以及降低基板的端面下垂的方法。R-(O)n-X-SO3H (1) | ||
搜索关键词: | 硬盘 用基板用 研磨 组合 方法 制造 | ||
【主权项】:
一种硬盘用基板用研磨液组合物,该研磨液组合物含有二氧化硅、酸、表面活性剂和水,其中(a)25℃时酸在水中的溶解度大于等于1g/100g饱和水溶液,(b)表面活性剂为以下述通式(1)所示的磺酸或其盐,且(c)研磨液组合物的pH值为0~4,所述表面活性剂的含量为0.005~2重量%,R‑(O)n‑X‑SO3H (1)通式(1)中,R表示碳原子数为6~20的全氟烃基,X表示从芳香烃的芳香环去掉2个氢原子后的残基,n表示0或1。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于花王株式会社,未经花王株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210334863.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。