[发明专利]硬盘用基板用研磨液组合物、基板的研磨方法和制造方法有效

专利信息
申请号: 201210334863.3 申请日: 2006-08-02
公开(公告)号: CN102863943A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 山口哲史 申请(专利权)人: 花王株式会社
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14;B24B37/00;B24B37/04;G11B5/84
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种硬盘用基板用研磨液组合物,该研磨液组合物含有二氧化硅、酸、表面活性剂和水,其中(a)25℃时酸在水中的溶解度大于等于1g/100g饱和水溶液,(b)表面活性剂为以下述通式(1)所示的磺酸或其盐,且(c)研磨液组合物的pH值为0~4,所述表面活性剂的含量为0.005~2重量%,通式(1)中,R表示碳原子数为6~20的全氟烃基,X表示从芳香烃的芳香环去掉2个氢原子后的残基,n表示0或1。本发明还提供使用上述研磨液组合物来研磨、制造基板的方法以及降低基板的端面下垂的方法。R-(O)n-X-SO3H  (1)
搜索关键词: 硬盘 用基板用 研磨 组合 方法 制造
【主权项】:
一种硬盘用基板用研磨液组合物,该研磨液组合物含有二氧化硅、酸、表面活性剂和水,其中(a)25℃时酸在水中的溶解度大于等于1g/100g饱和水溶液,(b)表面活性剂为以下述通式(1)所示的磺酸或其盐,且(c)研磨液组合物的pH值为0~4,所述表面活性剂的含量为0.005~2重量%,R‑(O)n‑X‑SO3H            (1)通式(1)中,R表示碳原子数为6~20的全氟烃基,X表示从芳香烃的芳香环去掉2个氢原子后的残基,n表示0或1。
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