[发明专利]制备高纯度瑞格列奈的方法在审
申请号: | 201210335043.6 | 申请日: | 2012-09-12 |
公开(公告)号: | CN103664828A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 张晟源 | 申请(专利权)人: | 高瑞耀业(北京)科技有限公司;高拓耀业(北京)科技有限公司 |
主分类号: | C07D295/135 | 分类号: | C07D295/135 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100039 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及制备下式(I)所示的瑞格列奈的新的制备方法。本发明提供了一种更加经济的制备高纯度的式(I)所示的瑞格列奈的新方法,根据本发明方法得到的式(I)化合物的粗品纯度可达到99.5%,精制后得到单一杂质小于0.1%的高纯度的瑞格列奈。 | ||
搜索关键词: | 制备 纯度 瑞格列奈 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制备高纯度的式(I)所示的瑞格列奈或其盐的方法,该方法的特征为:在碱的存在下,将式(II)所示的化合物在有机溶剂A与水的混合溶剂或水中进行水解反应,并在反应结束后将得到的如式(III)所示的盐进行分离,式中M+代表金属离子,然后将分离得到的式(III)所示的盐进行酸化、有机溶剂B提取并用溶剂C进行精制从而得到高纯度的瑞格列奈。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高瑞耀业(北京)科技有限公司;高拓耀业(北京)科技有限公司,未经高瑞耀业(北京)科技有限公司;高拓耀业(北京)科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210335043.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:岩溶塌陷的模拟装置
- 下一篇:一种小压缩比条件下使用连铸坯生产管线钢板的方法