[发明专利]ZnS纳米晶半导体前驱薄膜或半导体薄膜的电化学制备方法有效
申请号: | 201210339949.5 | 申请日: | 2012-09-14 |
公开(公告)号: | CN102864475A | 公开(公告)日: | 2013-01-09 |
发明(设计)人: | 王峰;徐新花;李志林;刘景军;吉静 | 申请(专利权)人: | 北京化工大学 |
主分类号: | C25D9/04 | 分类号: | C25D9/04;C25D9/08;C25D5/50 |
代理公司: | 北京五月天专利商标代理有限公司 11294 | 代理人: | 梁庆丰 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及ZnS纳米晶半导体前驱体薄膜或半导体薄膜的电化学制备方法,电解液含有摩尔比为(15-20):(15-25):(0.2-0.8):(0.3+0.1)的Zn2+,S2O32-,表面活性剂、SO32-,并含有氯化锂,电解液的pH值介于2.5-4.5之间;然后利用恒电流法或恒电位法,实现Zn、S二元素的共析结晶,生成纯净的六方相或立方相结构的ZnS前驱体薄膜。而后将所得前躯体薄膜在惰性气氛保护条件下于250-500℃下恒温一段时间,均得到纯净的高取向性的结晶性更好的立方相ZnS纳米晶半导体薄膜。本发明所提供的方法可控性强,重复性好,所制备的ZnS纳米晶半导体薄膜无杂质,适用于薄膜太阳能电池的窗口层材料。 | ||
搜索关键词: | zns 纳米 半导体 前驱 薄膜 电化学 制备 方法 | ||
【主权项】:
ZnS纳米晶半导体前躯体薄膜的电化学制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)配制电解液:所述的电解液含有摩尔比为(15‑20):(15‑25):(0.2‑0.8):(0.3+0.1)的Zn2+,S2O32‑,表面活性剂、SO32‑,并含有氯化锂(LiCl),电解液的pH值介于2.5‑4.5之间;(2)在步骤(1)配制好的溶液中利用恒电流或者恒电位沉积技术电沉积制备ZnS前驱体薄膜,恒电流的电流密度在8‑12 mA·cm‑2之间,电沉积的温度控制在20‑50℃之间;恒电位的电位控制在相对于饱和甘汞电极‑1.0 + 0.1V之间,电沉积的温度控制在20‑50℃之间。
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