[发明专利]X射线探测器背板的制造方法及PIN光电二极管的制造方法有效

专利信息
申请号: 201210343082.0 申请日: 2012-09-14
公开(公告)号: CN102856441A 公开(公告)日: 2013-01-02
发明(设计)人: 郭炜;任庆荣;赵磊 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L31/20 分类号: H01L31/20;H01L21/324;H01L21/265;H01L27/146
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 黄灿;赵爱军
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种X射线探测器背板的制造方法及PIN光电二极管的制造方法。所述PIN光电二极管的制造方法包括:在基板上沉积N型非晶硅薄膜;在N型非晶硅薄膜上沉积本征非晶硅薄膜;采用B2H6对本征非晶硅薄膜进行离子注入,并对离子注入后的本征非晶硅薄膜进行活化工艺,从而在本征非晶硅薄膜的上层形成P型非晶硅薄膜;进行掩模光刻工艺,得到PIN光电二极管的P型层、I型层和N型层。本发明采用离子注入和活化工艺来形成PIN光电二极管,能够避免在PECVD上增加B2H6气体进行PIN光电二极管和X射线探测器背板的制造时,所带来的气体交叉污染问题。
搜索关键词: 射线 探测器 背板 制造 方法 pin 光电二极管
【主权项】:
一种PIN光电二级管的制造方法,其特征在于,所述制造方法采用离子注入和活化工艺来形成PIN光电二极管。
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