[发明专利]一种检测离子井中载流子迁移的方法

摘要

本发明公开了一种检测离子井中载流子迁移的方法，其中包括：步骤a，在晶圆的同一个有源区域内设置有预定间距的两种类型的离子井；步骤b，在离子井的上方各添加一层金属硅化物；步骤c，在离子井上方的金属硅化物上各形成一个接触孔；步骤d，采用金属铜连接接触孔，并形成完整器件结构；步骤e，在器件结构上方引入一根光纤，光纤用于照射器件表面；本发明的有益效果为：利用本发明的技术，通过电子显微镜的观察，可以直接判断各种强度的光对不同离子浓度的离子井中光生载流子迁移的影响，以此作为实验基础研究器件性能在不同强度光辐射干扰下的载流子情况，并改进制造工艺。

主权项

一种检测离子井中载流子迁移的方法，搭建特定结构的器件并在不同光强辐射下检测该器件中的载流子迁移现象，其特征在于，步骤包括：步骤a，在晶圆的同一个有源区域内设置有预定间距的两种类型的离子井；步骤b，在所述离子井的上方各添加一层金属硅化物；步骤c，在所述离子井上方的所述金属硅化物上各形成一个接触孔；步骤d，采用金属铜连接所述接触孔，并形成完整器件结构；步骤e，在所述器件结构上方引入一根光纤，所述光纤用于照射所述器件表面。