[发明专利]一种用于辉光光谱仪分析渗碳层化学成分的试样制备方法有效

专利信息
申请号: 201210343892.6 申请日: 2012-09-14
公开(公告)号: CN102879243A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 杨黎青;郭子静;赵勇 申请(专利权)人: 西安航空动力股份有限公司
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28
代理公司: 中国航空专利中心 11008 代理人: 李建英
地址: 710021*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明属于渗碳金属表面化学成分分析技术,涉及一种用于辉光光谱仪分析渗碳层化学成分的试样制备方法。本方法是通过下述步骤实现的:(1)选择与零件材料相同或接近的试样,(2)对试样进行渗碳处理,(3)渗碳试样的斜面加工。本发明将渗碳试样加工成一个小角度的斜面试样,从试样表面由高到低进行辉光光谱分析,在一个试样上完成从表面到基体的渗碳试样的成分分析。通过这种加工方法,采用辉光光谱分析试样渗碳层的化学成分随深度的变化,尤其是碳含量随深度的变化规律,以此对渗碳工艺进行评价,确保渗碳层深度和成分符合工艺规范要求。
搜索关键词: 一种 用于 辉光 光谱仪 分析 渗碳 化学成分 试样 制备 方法
【主权项】:
一种用于辉光光谱仪分析渗碳层化学成分的试样制备方法,其特征是,(1)选择试样:选择直径为70‑80mm,厚度为20‑40mm的试样,试样的材料与零件材料相同或接近;(2)对试样进行渗碳处理:按照零件渗碳工艺要求,将选择好的试样随渗碳零件共同进行渗碳处理,确保渗碳试样能够代表零件表面状态;(3)渗碳试样的加工:将渗碳试样在磨床上进行加工,使试样渗碳表面形成一个斜面,直径方向或长度方向的最高处与最低处的高度差为2‑3mm,确保最低处试样表面去除量大于渗层深度。
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