[发明专利]一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201210349520.4 申请日: 2012-09-19
公开(公告)号: CN102881688A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 邓检 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/786;H01L21/77;G02F1/1368
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制造方法,所述阵列基板包括多个像素单元,每个像素单元包括薄膜晶体管、透明导电金属层和像素电极,所述薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极,其中,所述有源层位于栅极的上方或者下方;所述透明导电金属层与有源层层叠接触;所述源极和漏极形成有源层的沟道,且所述漏极与像素电极连接。由于透明导电金属与有源层层叠接触,在阵列基板的制造过程中,在沉积透明导电薄膜和有源层薄膜之后,只需通过一次半色调掩模构图工艺即可形成像素电极图形和有源层图形,大大简化了生产工艺,同时也减少了该次掩模构图工艺可能带来的产品缺陷,大大提高了产能。
搜索关键词: 一种 阵列 显示 面板 制造 方法
【主权项】:
一种阵列基板,其特征在于,包括多个像素单元,每个像素单元包括薄膜晶体管、透明导电金属层和像素电极,所述薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极,其中,所述有源层位于栅极的上方或者下方;所述透明导电金属层与有源层层叠接触;所述源极和漏极形成有源层的沟道,且所述漏极与像素电极连接。
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