[发明专利]用于铜层/钛层的蚀刻溶液组合物在审
| 申请号： | 201210350451.9 | 申请日： | 2012-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN103668206A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 尹暎晋;刘仁浩;金童基 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26;H01L21/336 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 李中奎 |
| 地址： | 韩国全罗*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于铜层/钛层的蚀刻溶液组合物和使用该蚀刻溶液组合物制造薄膜晶体管的方法。该蚀刻溶液组合物按重量百分比包括：5%到20%的过硫酸盐；0.01%到2%的氟化合物；0.001%到3%的氯化合物；1%到10%的无机酸、该无机酸的盐或其混合物；0.3%到5%的环胺化合物；1%到10%的有机酸、该有机酸的盐或其混合物；0.1%到5%的对甲苯磺酸；以及形成该组合物的余量的水。该蚀刻溶液组合物显示出优异的储存稳定性并且可以以较高的蚀刻速率均匀地且完全地蚀刻由铜层和钛层组成的多层金属膜，以便简化蚀刻过程，提高产量并且确保优异的蚀刻性能。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 蚀刻 溶液 组合 | ||
【主权项】：
一种用于铜层/钛层的蚀刻溶液组合物，包括：重量百分比为5%到20%的过硫酸盐；重量百分比为0.01%到2%的氟化合物；重量百分比为0.001%到3%的氯化合物；重量百分比为1%到10%的无机酸、该无机酸的盐或其混合物；重量百分比为0.3%到5%的环胺化合物；重量百分比为1%到10%的有机酸、该有机酸的盐或其混合物；重量百分比为0.1%到5%的对甲苯磺酸；以及形成所述组合物的余量的水。
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