[发明专利]直写式光刻机在步进式曝光时的二维拼接处理方法

摘要

本发明公开了一种二值步进式光刻机的二维拼接处理方法，包括有使用空间光调制器(SLM，SpatialLightModulator)作为图形发生器的无掩模光刻系统，通过控制精密平台在每个曝光位置都做“Z”字形的4次交叠曝光，使最终刻蚀后的图形在所有的拼接位置达到良好的拼接效果。

主权项

一种直写式光刻机在步进式曝光时的二维拼接处理方法，其特征在于：直写式光刻机包括有曝光光源、图形发生器、安装于移动平台上的基底，曝光光源、二值图形发生器之间安装有光学集光系统；图形发生器与基底之间设有倾斜的分束器与可更换的透镜，分束器的反射光再经反射镜进入CCD相机，CCD相机外接计算机； 具体的拼接处理方法包括以下步骤：（1）将需要曝光的图形拆分成多个空间光调制器视场大小的单色位图；（2）通过控制移动平台的步进运动，使空间光调制器在基底上的投影也做步进式叠加运动；（3）移动平台首先移动到起始曝光位置，从步骤（1）的结果中查找当前位置的图片并发送到空间光调制器中显示，完成单次曝光；（4）然后沿X方向步进半个空间光调制器宽度的距离再次曝光；（5）再沿X轴回退半个空间光调制器宽度的距离同时沿Y方向步进半个空间光调制器高度的距离再次曝光；（6）最后沿X方向步进半个空间光调制器宽度的距离再次曝光，在每个曝光位置，平台都做Z字形轨迹运动，共需要完成4次曝光，自此完成了一个曝光位置的曝光；（7）移动平台移动到下一个曝光位置，重复步骤（3）‑（6），完成该位置的曝光；（8）重复步骤（7），直至完成整个基底的曝光。