[发明专利]感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图形制法、引线框制法及线路板制法有效
申请号: | 201210352844.3 | 申请日: | 2011-06-10 |
公开(公告)号: | CN102854750A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 岩下健一;栉田昌孝 | 申请(专利权)人: | 日立化成工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/033 | 分类号: | G03F7/033;G03F7/09;G03F7/00;H05K3/06;H05K3/18 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 金鲜英;刘强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图形制法、引线框制法及线路板制法。一种感光性树脂组合物,其构成为含有粘合剂聚合物、聚合性化合物和光聚合引发剂,该粘合剂聚合物具有来自于(甲基)丙烯酸的结构单元、以及来自于(甲基)丙烯酸苄酯或(甲基)丙烯酸苄酯衍生物的结构单元,该聚合性化合物具有至少一个乙烯性不饱和键,该光聚合引发剂含有酰基膦氧化物系化合物和六芳基二咪唑衍生物。 | ||
搜索关键词: | 感光性 树脂 组合 元件 抗蚀剂 图形 制法 引线 线路板 | ||
【主权项】:
一种感光性树脂组合物,其含有(A)粘合剂聚合物、(B)聚合性化合物和(C)光聚合引发剂,该(A)粘合剂聚合物具有来自于(甲基)丙烯酸的结构单元、以及来自于(甲基)丙烯酸苄酯或(甲基)丙烯酸苄酯衍生物的结构单元,该(B)聚合性化合物具有至少一个乙烯性不饱和键,该(C)光聚合引发剂含有酰基膦氧化物系化合物和六芳基二咪唑衍生物。
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