[发明专利]半导体器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201210356628.6 申请日: 2012-09-19
公开(公告)号: CN103456737A 公开(公告)日: 2013-12-18
发明(设计)人: 李起洪;皮昇浩;田锡旼 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247;H01L21/768
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 周晓雨;俞波
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开了一种半导体器件及其制造方法,所述半导体器件包括:第一源极层;至少一个第二源极层,所述第二源极层大体形成在第一源极层中;多个导电层,所述多个导电层大体层叠在第一源极层之上;沟道层,所述沟道层穿通多个导电层且与第二源极层耦接;以及至少一个第三源极层,所述第三源极层大体形成在第二源极层中,其中,所述第三源极层穿通第二源极层且与第一源极层耦接。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体器件,包括:第一源极层;至少一个第二源极层,所述第二源极层大体形成在所述第一源极层中;多个导电层,所述多个导电层大体层叠在所述第一源极层之上;沟道层,所述沟道层穿通所述多个导电层且与所述第二源极层耦接;以及至少一个第三源极层,所述第三源极层大体形成在所述第二源极层中,其中,所述第三源极层穿通所述第二源极层且与所述第一源极层耦接。
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