[发明专利]阻变存储器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210361359.2 申请日: 2012-09-25
公开(公告)号: CN102891253A 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 蔡一茂;毛俊;武慧薇;黄如 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 俞波;许伟群
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例公开了一种阻变存储器及其制备方法。所述阻变存储器包括上电极、阻变材料和下电极,所述阻变材料位于下电极之上,所述上电极嵌入在阻变材料之内,所述上电极的顶部的宽度大于其底部的宽度。本发明还公开了阻变存储器的制备方法。本发明所提供的阻变存储器及其制备方法,可以有效地缩小电极的作用面积,同时,可以以制作微米级存储器的成本来实现纳米级存储器的效果,简化了存储器的制作工艺、同时节约了制作成本。
搜索关键词: 存储器 及其 制备 方法
【主权项】:
一种阻变存储器,其特征在于,包括上电极(1)、阻变材料(2)和下电极(3),所述阻变材料(2)位于下电极(3)之上,所述上电极(1)嵌入在阻变材料(2)之内,所述上电极的顶部的宽度大于其底部的宽度。
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