[发明专利]无掩膜曝光系统及方法有效
| 申请号： | 201210363540.7 | 申请日： | 2012-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN103048885A | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 梅文辉;杜卫冲;曲鲁杰 | 申请（专利权）人： | 中山新诺科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京龙双利达知识产权代理有限公司 11329 | 代理人： | 毛威;肖鹂 |
| 地址： | 528437 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种无掩膜曝光系统和方法。该系统包括：光学引擎阵列；平移装置，用于驱动光学引擎阵列沿着第一方向平移；扫描平台，用于承载基板并驱动基板沿着第二方向移动，该第二方向与该第一方向垂直；运动控制及数据处理系统，用于控制平移装置和扫描平台的运动，并处理曝光图案数据；该光学引擎阵列包括的光学引擎以（M，N）阵列排布，M和N为自然数，且M与N的乘积大于或等于2；该扫描平台还设置有至少一个第二方向位置传感器，用于检测该扫描平台移动时沿该第二方向的位置信息，以同步该光学引擎阵列包括的各光学引擎。本发明实施例的无掩膜曝光系统和方法，能够实现大面积曝光并对准，从而能够提高生产率和曝光质量。 | ||
| 搜索关键词： | 无掩膜 曝光 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种无掩膜曝光系统，其特征在于，包括：光学引擎阵列，设置在基板的上方，用于生成曝光图案并将所述曝光图案转换到所述基板上；平移装置，用于驱动所述光学引擎阵列沿着第一方向平移；扫描平台，固定在所述无掩膜曝光系统的基座上，用于承载所述基板并驱动所述基板沿着第二方向移动，所述第二方向与所述第一方向垂直；运动控制及数据处理系统，用于控制所述平移装置和所述扫描平台的运动，并处理曝光图案数据，以便于所述光学引擎阵列生成所述曝光图案；其中，所述光学引擎阵列包括的光学引擎以（M，N）阵列排布，M和N为自然数，且M与N的乘积大于或等于2；所述扫描平台还设置有至少一个第二方向位置传感器，用于检测所述扫描平台移动时沿所述第二方向的位置信息，以同步所述光学引擎阵列包括的各光学引擎。
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