[发明专利]一种三维有序大孔InVO4可见光响应型光催化剂、制备及应用无效

专利信息
申请号: 201210364117.9 申请日: 2012-09-26
公开(公告)号: CN102872853A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 戴洪兴;王媛;邓积光;刘雨溪;李欣尉;赵振璇;吉科猛 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: B01J23/22 分类号: B01J23/22;B01J35/10;C02F1/30;C02F101/38
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 张慧
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种三维有序大孔InVO4可见光响应型光催化剂、制备及应用,属于光响应型催化剂技术领域。在搅拌条件下,将等摩尔比的硝酸铟、偏钒酸铵和络合剂溶解于水和无水甲醇与乙二醇的混合液中,搅拌均匀,称取PMMA模板于前躯体液中浸渍,经真空抽滤后室温干燥,在管式炉中于氮气气氛下以1-2℃/min的速率从室温升至300℃并在该温度下保持3h,待炉温冷却至室温后在空气气氛下以1-2℃/min速率从室温升至500℃并在该温度下保持4h。三维有序大孔结构并孔壁上具有介孔的钒酸铟光催化剂在可见光照射下1小时后对亚甲基蓝的降解效率达到92-98%。本发明制备方法操作简单,原料价格低廉。
搜索关键词: 一种 三维 有序 invo sub 可见光 响应 光催化剂 制备 应用
【主权项】:
一种三维有序大孔InVO4可见光响应型光催化剂,其特征在于,该催化剂为具有三维有序大孔结构并孔壁上具有介孔的钒酸铟催化剂,平均孔径为130~170nm,孔壁介孔孔径为2~10nm,带隙能为2~3eV。
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