[发明专利]一种对平板玻璃进行综合强化的方法有效
| 申请号： | 201210365582.4 | 申请日： | 2012-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN102887650A | 公开（公告）日： | 2013-01-23 |
| 发明（设计）人： | 颜悦;姜良宝;郭新涛;厉蕾;张官理 | 申请（专利权）人： | 中国航空工业集团公司北京航空材料研究院 |
| 主分类号： | C03C17/23 | 分类号： | C03C17/23;C03C21/00;C03C15/02;C03B27/02 |
| 代理公司： | 中国航空专利中心 11008 | 代理人： | 陈宏林 |
| 地址： | 100095*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种对平板玻璃进行综合强化的方法，其特征在于：该方法的步骤是：⑴用离子束对平板玻璃的上、下表面进行刻蚀，以减少微观裂纹，刻蚀深度为1～50μm；⑵对离子束刻蚀后的平板玻璃进行化学强化，化学强化温度为390～470℃，化学强化时间为1～50h；⑶对化学强化后的平板玻璃的上、下表面进行离子束抛光，抛光深度为1～10μm；⑷对离子束抛光后、新形成的无损伤的平板玻璃的上、下表面进行单面或双面镀晶态二氧化硅薄膜，晶态二氧化硅薄膜的厚度为100～1000nm，；⑸对镀膜后的玻璃进行透光率和抗落球冲击强度测试。本发明提供的方法能大大提高玻璃的强度，且不会造成环境污染，并可以实现连续、稳定、批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平板玻璃 进行 综合 强化 方法 | ||
【主权项】：
一种对平板玻璃进行综合强化的方法，其特征在于：该方法的步骤是：⑴用离子束对平板玻璃的上、下表面进行刻蚀，刻蚀深度为1～50μm；⑵对离子束刻蚀后的平板玻璃进行化学强化；⑶对化学强化后的平板玻璃的上、下表面进行离子束抛光，抛光深度为1～10μm；⑷对离子束抛光后的平板玻璃的上、下表面进行单面或双面镀晶态二氧化硅薄膜，晶态二氧化硅薄膜的厚度为100～1000nm；⑸对镀膜后的玻璃进行透光率和抗落球冲击强度测试。
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