[发明专利]掩膜板固化方法及掩膜板处理工艺无效
| 申请号： | 201210366881.X | 申请日： | 2012-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN103698972A | 公开（公告）日： | 2014-04-02 |
| 发明（设计）人： | 顾婷婷 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/68 | 分类号： | G03F1/68;G03F1/82 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种掩膜板固化方法，该方法包括：将掩膜板进行等离子体工艺处理，以使掩膜板固化。本发明还揭示了一种掩膜板处理工艺，该工艺包括：制备具有图形的掩膜板；将所述掩膜板进行等离子体工艺处理，使所述掩膜板固化以形成固化掩膜板；以及将所述固化掩膜板进行湿法清洗。本发明采用等离子体对掩膜板进行固化，使掩膜板在湿法清洗去除缺陷的过程中不会损坏到掩模板，提高良率。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 固化 方法 处理 工艺 | ||
【主权项】：
一种掩膜板固化方法，其特征在于，对掩膜板进行等离子体工艺处理，以使掩膜板固化。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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