[发明专利]一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版及其制备方法有效
| 申请号： | 201210366937.1 | 申请日： | 2012-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN103692800A | 公开（公告）日： | 2014-04-02 |
| 发明（设计）人： | 邹应全;汪建国 | 申请（专利权）人： | 北京师范大学 |
| 主分类号： | B41N1/22 | 分类号： | B41N1/22;B41N3/08;G03F7/004;G03F7/075 |
| 代理公司： | 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 | 代理人： | 张水俤 |
| 地址： | 100875 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了属于印刷制版技术领域的一种由版基和含硅乙烯基醚层组成的阳图无水胶印版及其制备方法。版基由铝版带材进行清洗、中和、电解、氧化、封孔后获得到；含硅乙烯基醚层即为含硅乙烯基醚涂布液在版基表面形成的单位面积质量为0.1-3.0g/m2的含硅乙烯基醚薄膜。本发明改变以往无水胶印版多层结构的设计，只用一层含硅乙烯基醚树脂层完成感光成像和斥墨作用，制得的阳图无水胶印版具有成本低、分辨率高、耐印力高、感度高、显影性能优良、用途广泛等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 单层 乙烯基 结构 无水 胶印 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版，其特征在于，所述无水胶印版由版基和含硅乙烯基醚层组成；版基由铝版带材进行清洗、中和、电解、氧化、封孔后获得；含硅乙烯基醚层即为含硅乙烯基醚涂布液在版基表面形成的单位面积质量为0.1‑3.0g/m2的含硅乙烯基醚薄膜。
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