[发明专利]多层膜器件真空沉积装置有效
| 申请号： | 201210370067.5 | 申请日： | 2012-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN102877026A | 公开（公告）日： | 2013-01-16 |
| 发明（设计）人： | 刘星元;林杰;李会斌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/56 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 南小平 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明多层膜器件真空沉积装置属于真空技术领域，目的在于解决现有技术中设备复杂、成本高、蒸发源浪费的问题。包括主挡板、主掩膜板、主衬底板以及一个真空室；所述主挡板、主掩膜板以及主衬底板位于所述真空室内；所述主衬底板、主掩膜板及主挡板自上而下同轴安放，所述真空室下部有沉积源、屏蔽板、以及磁控溅射靶，所述主衬底板上安装有烘烤装置；通过旋转所述主衬底板、主掩膜板以及主挡板来更换沉积材料。通过多次定位不同的掩膜框、衬底架、主挡板及沉积源实现多层膜器件在一个真空室内沉积形成，缩小了设备的体积，避免多个真空室之间传递带来的不变；采用衬底在沉积源正上方的方式，减少了蒸发材料的损耗，增加膜层的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 多层 器件 真空 沉积 装置 | ||
【主权项】：
多层膜器件真空沉积装置，其特征在于，包括主挡板（3）、主掩膜板（4）、主衬底板（6）以及一个真空室（17）；所述主挡板（3）、主掩膜板（4）以及主衬底板（6）均位于所述真空室（17）内；所述主衬底板（6）、主掩膜板（4）及主挡板（3）自上而下过圆心同轴安放，所述真空室（17）下部设置有沉积源及屏蔽板（2），所述主衬底板（6）上安装有烘烤装置（7）；该沉积装置可通过水平方向上旋转所述主衬底板（6）、主掩膜板（4）以及主挡板（3）来更换沉积材料。
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