[发明专利]彩色滤光基板以及其相关制作方法无效
| 申请号： | 201210371457.4 | 申请日： | 2012-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN102854656A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 袁继旺 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02B5/20;G03F7/00;G03F1/32 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 欧阳启明 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种彩色滤光基板的制作方法，用来制作一彩色滤光基板，所述制作方法包含：提供一玻璃基板；于所述玻璃基板上，形成一黑色矩阵层；于所述玻璃基板与所述黑色矩阵层上，沉积一彩色膜层；利用具有多种透光率的一掩膜，以对所述彩色膜层进行不同程度的曝光显影；以及根据曝光显影的结果，来蚀刻所述彩色膜层，以使所述彩色膜层与所述黑色矩阵层重叠的一第一区域被部分蚀刻，以及所述彩色膜层与所述黑色矩阵层重叠的一第二区域被完全蚀刻。 | ||
| 搜索关键词： | 彩色 滤光 及其 相关 制作方法 | ||
【主权项】：
一种彩色滤光基板的制作方法，用来制作一彩色滤光基板，所述制作方法包含：提供一玻璃基板；于所述玻璃基板上，形成一黑色矩阵层；其特征在于：所述制作方法另包含：于所述玻璃基板与所述黑色矩阵层上，沉积一彩色膜层；利用具有多种透光率的一掩膜，以对所述彩色膜层进行不同程度的曝光显影；以及根据曝光显影的结果，来蚀刻所述彩色膜层，以使所述彩色膜层与所述黑色矩阵层重叠的一第一区域被部分蚀刻，以及所述彩色膜层与所述黑色矩阵层重叠的一第二区域被完全蚀刻。
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