[发明专利]光罩及其制造方法在审
| 申请号： | 201210375589.4 | 申请日： | 2012-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN103698971A | 公开（公告）日： | 2014-04-02 |
| 发明（设计）人： | 金普楠;常聪 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;G03F1/54 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 牛峥;王丽琴 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光罩及其制造方法，由于在透明基材的上表面形成有透光的光致超亲水性薄膜，如二氧化钛光催化薄膜，借助该光致超亲水性薄膜其在光的照射下具有超亲水性，在薄膜表面形成的水膜可以溶解环境中的氨气、二氧化硫等污染气体，因此避免结晶体的产生，可以从根本上解决光罩出现雾状缺陷的问题，提高半导体晶圆的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光罩的制造方法，包括：提供未安装保护膜的光罩，其包括透明基材及设置于透明基材上表面的吸收层；使用去离子水清洗所述未安装保护膜的光罩，在所述透明基材上表面形成一层透光的光致超亲水性薄膜；安装保护膜。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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