[发明专利]自限反应沉积设备及自限反应沉积方法

摘要

本发明提供了一种自限反应沉积设备及自限反应沉积方法。该自限反应沉积设备包括第一导向辊、第二导向辊、以及至少一个第一头部。第一导向辊在支撑通过辊对辊工艺输送的基材的第一表面的同时将基材的输送方向从第一方向变成不与第一方向平行的第二方向。第二导向辊在支撑基材的第一表面的同时将基材的输送方向从第二方向变成不与第二方向平行的第三方向。至少一个第一头部布置在第一导向辊与第二导向辊之间，面向与基材的第一表面相对的第二表面，并朝向第二表面排放用于自限反应沉积的原料气体。

主权项

一种自限反应沉积设备，包括：第一导向辊，所述第一导向辊构造为，在支撑通过辊对辊工艺输送的基材的第一表面的同时，将所述基材的输送方向从第一方向变成不与所述第一方向平行的第二方向；第二导向辊，所述第二导向辊构造成，在支撑所述基材的所述第一表面的同时，将所述基材的所述输送方向从所述第二方向变成不与所述第二方向平行的第三方向；以及至少一个第一头部，所述至少一个第一头部布置在所述第一导向辊与所述第二导向辊之间，面向所述基材的与所述第一表面相对的第二表面，并构造为朝向所述第二表面排放用于自限反应沉积的原料气体。