[发明专利]包括增加的热耗散能力的3D集成电子装置结构有效
申请号: | 201210376998.6 | 申请日: | 2012-10-08 |
公开(公告)号: | CN103030093B | 公开(公告)日: | 2018-02-02 |
发明(设计)人: | K.R.纳加卡;C.F.基梅尔 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | B81B7/00 | 分类号: | B81B7/00;B81C3/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 叶晓勇,朱海煜 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的名称是“包括增加的热耗散能力的3D集成电子装置结构”。微电子装置结构包括增加的热耗散能力。该结构包括倒装芯片接合到衬底的三维(3D)集成芯片组件。芯片组件包括装置衬底,其包括放置在其上有源装置。盖层在物理上接合到装置衬底,以至少部分限定有源装置周围的气密密封。微电子装置结构提供通过其的多个热量耗散路径,以耗散在其中生成的热量。 | ||
搜索关键词: | 包括 增加 耗散 能力 集成 电子 装置 结构 | ||
【主权项】:
一种设备,包括:三维(3D)集成芯片组件,所述芯片组件包括:装置衬底;MEMS继电器,包括放置在所述装置衬底上的一个或多个发热元件;盖层,在物理上接合到所述装置衬底;放置在所述MEMS继电器周围的密封环,所述密封环为玻璃料;以及气密密封,在所述MEMS继电器周围形成,所述气密密封至少部分由所述装置衬底和所述盖层来限定;衬底,其中所述三维(3D)集成芯片组件倒装芯片接合到所述衬底,其中,多个热量耗散路径通过所述三维(3D)集成芯片组件延伸,以耗散在其中生成的热量,并且所述热量耗散路径提供从所述MEMS继电器到其MEMS金属互连的连续热传导金属通路。
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