[发明专利]大型双控温式活性屏离子渗氮装置

摘要

本发明提供的大型双控温式活性屏离子渗氮装置涉及一种离子渗氮处理的大型热处理装置。它包括真空炉、高频直流主电源、活性屏、工件载物台、高频直流偏压电源、控制计算机和热电偶；高频直流偏压电源的负极与工件载物台相连接，高频直流偏压电源电压高于自溅射阈值；热电偶有两支，一支活性屏热电偶放置在靠近笼子的位置，活性屏热电偶采集的温度数据通过控制计算机调节高频直流主电源的直流电压和占空比，另一支工件热电偶则放置在工件载物台中间，工件热电偶采集的温度数据通过控制计算机调节高频直流偏压电源的直流电压和占空比。本发明的优点是：适用于内径较大的离子渗氮炉，渗氮质量高，渗氮周期短。

主权项

大型双控温式活性屏离子渗氮装置，它包括真空炉、高频直流主电源、活性屏和工件载物台；真空炉配备有供气系统和真空系统；活性屏为铁制笼子，它设置在真空炉内；高频直流主电源的负极与活性屏连接，正极与真空炉炉体连接，并接地保护；工件载物台设置在铁制笼子内；其特征在于：它还包括高频直流偏压电源、控制计算机和热电偶；高频直流偏压电源的负极与工件载物台相连接，正极与炉体相连接，并接地保护，高频直流偏压电源电压高于自溅射阈值；热电偶有两支，一支活性屏热电偶放置在靠近笼子的位置，活性屏热电偶采集的温度数据通过控制计算机调节高频直流主电源的直流电压和占空比，另一支工件热电偶则放置在工件载物台中间，工件热电偶采集的温度数据通过控制计算机调节高频直流偏压电源的直流电压和占空比。