[发明专利]一种化学镀Ni-P镀层的晶化处理方法有效
申请号: | 201210380852.9 | 申请日: | 2012-10-10 |
公开(公告)号: | CN102877045A | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
发明(设计)人: | 孔德军;王文昌;吴永忠;付贵忠;陈建栋;龙丹;张垒 | 申请(专利权)人: | 常州大学 |
主分类号: | C23C18/32 | 分类号: | C23C18/32 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 楼高潮 |
地址: | 213164 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种化学镀Ni-P镀层的晶化处理方法,属于材料表面改性处理领域。本发明利用激光热效应对化学镀Ni-P镀层进行晶化处理,使其物相由非晶态向晶态转变,析出Ni3P硬化相,提高镀层硬度和耐磨性能,属于材料表面改性处理领域。其特征在于:利用激光作为热源,Ni-P镀层吸收激光的能量,温度可以精确控制。在激光热辐射处理过程中,在350℃时Ni3P相开始形成,由于Ni3P相的形成造成P含量降低,故Ni3P相的进一步生成是依靠周围P原子的扩散来补充,镀层表面激光高能密度加快了P原子的扩散速率,在400℃时Ni3P相又重新生成,其在XRD谱线上表现为Ni3P特征峰更趋于明显,而对于单质镍,在整个热处理过程中,其结晶度是随温度提高和时间延长而不断的得到完善。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 ni 镀层 处理 方法 | ||
【主权项】:
一种化学镀Ni‑P镀层的晶化处理方法,包括对ZL113铝合金进行化学镀形成Ni‑P镀层的步骤和对Ni‑P镀层进行晶化处理的步骤,其特征在于:对Ni‑P镀层进行晶化处理的步骤为:利用激光作为热源,对Ni‑P镀层表面进行晶化处理,通过镀层对激光能量的吸收和热扩散,引起物体边界上和内部的热流运动,控制晶化温度为350‑400℃,产生固相晶化反应,弥散析出的Ni3P相,使镀层硬度由340‑350HV提高到490‑505HV。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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