[发明专利]疏水层、其制作方法、具有疏水层的物品及模具的制作方法在审
申请号: | 201210380980.3 | 申请日: | 2012-10-09 |
公开(公告)号: | CN103710679A | 公开(公告)日: | 2014-04-09 |
发明(设计)人: | 杨启荣;蔡宗翰;吴思贤;张天立 | 申请(专利权)人: | 杨启荣 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;B05D5/08 |
代理公司: | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人: | 须一平 |
地址: | 中国台湾台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种具有疏水层的物品,包含一基材及一疏水层。该疏水层由施加于该基材表面的一反应气体经等离子处理而形成于该基材表面。该反应气体的主成分为挥发态的烷基硅烷分子。该疏水层的主要成分为硅与氧,且厚度为300纳米至500微米。该疏水层具有优良的疏水性,且对酸、碱、有机溶液的耐受性佳,并能承受高温加热,而提升疏水层在物品制作过程以及使用上的稳定性。 | ||
搜索关键词: | 疏水 制作方法 具有 物品 模具 | ||
【主权项】:
一种疏水层的制作方法,其特征在于,该制作方法包含以下步骤:(A)制备一基材;(B)产生一反应气体,该反应气体主要成分为挥发态的烷基硅烷分子;(C)施加该反应气体及一等离子于该基材的一表面;及(D)形成一疏水层于该基材的该表面。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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