[发明专利]薄膜晶体管像素结构及其制作方法

摘要

本发明涉及一种薄膜晶体管像素结构及其制作方法，薄膜晶体管像素结构包括基材、第一导电层、栅极绝缘层、通道层、第二导电层、接触孔、保护层以及透明导电层。制作方法主要是形成栅极绝缘层于基材上，并且覆盖扫描线、栅极层以及遮蔽层；并且形成第二导电层于基材上，并且图案化第二导电层，以形成数据线、连接数据线的漏极层以及源极层于通道层上，栅极层、通道层、源极层以及漏极层形成若干薄膜晶体管，其中通道层介于遮蔽层和源极层之间，当光线照射基材时，通过遮蔽层沿着光线的照射方向与通道层相对应设置，使遮蔽层可遮蔽光线无法照射通道层,可以解决画面显示异常以及显示残影的问题，并且不会将低薄膜晶体管像素结构的开口率。

主权项

一种薄膜晶体管像素结构的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括下列步骤：形成一第一导电层于一基材上；图案化所述第一导电层，以形成扫描线、电性连接所述扫描线的栅极层、以及遮蔽层于所述基材上；形成一栅极绝缘层于所述基材上，并且覆盖所述扫描线、所述栅极层以及所述遮蔽层；形成一通道层于所述栅极绝缘层上，所述通道层与所述栅极层相对应设置；形成一第二导电层于所述基材上，并且图案化所述第二导电层，以形成数据线、连接所述数据线的一漏极层以及一源极层于所述通道层上，所述栅极层、所述通道层、所述源极层以及所述漏极层形成若干薄膜晶体管，其中所述通道层介于所述遮蔽层和所述源极层之间，当一光线照射所述基材时，通过所述遮蔽层沿着所述光线的照射方向与所述通道层相对应设置，使所述遮蔽层可遮蔽所述光线无法照射所述通道层；以及形成一透明导电层，使所述透明导电层电性连接所述源极层，以形成若干像素电极。