[发明专利]一种通过加曝图形制作掩模板的方法有效
| 申请号： | 201210384701.0 | 申请日： | 2012-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN102890432A | 公开（公告）日： | 2013-01-23 |
| 发明（设计）人： | 李春兰 | 申请（专利权）人： | 深圳清溢光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 云南派特律师事务所 53110 | 代理人： | 张怡 |
| 地址： | 518000 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种通过加曝图形制作掩模板的方法，包括以下步骤：（1）设计数据图形，所述数据图形放置于第一图层中，再将需要加曝的数据图形置于另外的图层中；（2）设置曝光数据参数及曝光格式转换；（3）投入掩模材料；（4）开始曝光，采用步骤（1）所述的第一图层的数据图形进行一次曝光；（5）采用步骤（1）所述另外图层中的需要加曝的数据图形进行重复曝光；（6）显影、刻蚀；（7）光刻胶剥离、掩模板清洗、测量、检查修复、贴膜、包装出货。通过采用本发明的二次（或多次）重复曝光的工艺，解决了掩模板边缘胶厚曝不透的问题，并且可制作精细线条图形的高精度掩模板。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通过 图形 制作 模板 方法 | ||
【主权项】：
一种通过加曝图形制作掩模板的方法，其特征在于包括以下步骤：（1）设计数据图形，所述数据图形放置于第一图层中，再将需要加曝的数据图形置于另外的图层中；（2）设置曝光数据参数及曝光格式转换；（3）投入掩模材料；（4）开始曝光，采用步骤（1）所述的第一图层的数据图形进行一次曝光；（5）采用步骤（1）所述另外图层中的需要加曝的数据图形进行重复曝光；（6）显影、刻蚀；（7）光刻胶剥离、掩模板清洗、测量、检查修复、贴膜、包装出货。
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