[发明专利]用于提高输出稳定性的调Q激光器无效
申请号: | 201210387950.5 | 申请日: | 2012-10-14 |
公开(公告)号: | CN102882111A | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
发明(设计)人: | 李强;苏艳丽;罗旭;雷訇;惠勇凌;姜梦华 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | H01S3/0941 | 分类号: | H01S3/0941;H01S3/11 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 刘萍 |
地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及用于提高输出稳定性的调Q激光器,属于激光技术领域。该激光器至少包括泵浦源、泵浦驱动系统、激光增益介质、可饱和吸收器件、腔镜。通过采用偏振光泵浦和增益预泵浦技术提高输出脉冲稳定性,包括偏振特性稳定性、幅度稳定性和重复频率稳定性。本发明具有简单有效、易于调节、工作稳定可靠、适用范围广等优势,解决了传统调Q激光器输出偏振方向不稳定,随着重复频率的提高,输出脉冲幅度稳定性和重复频率稳定性下降的问题。 | ||
搜索关键词: | 用于 提高 输出 稳定性 激光器 | ||
【主权项】:
用于提高输出稳定性的调Q激光器,其特征在于,至少包含:泵浦源、泵浦驱动系统、激光增益介质、可饱和吸收体、腔镜,所述泵浦源为半导体激光器,所发出的泵浦光为线偏振光,直接或通过耦合透镜后入射到激光增益介质中,泵浦源的发射谱与激光增益介质的吸收谱匹配;增益预泵浦技术通过泵浦驱动系统实现;激光增益介质产生激光输出;所述激光增益介质和可饱和吸收体为两块分立的晶体,或者通过工艺结合成一种复合晶体,其结合工艺采用扩散键合、液相外延、气相外延、金属有机气相沉积四种工艺之一,或在激光增益介质中同时掺入激光增益离子和可饱和吸收离子,构成自饱和吸收的激光介质;所述腔镜包括一个后腔镜和一个耦合输出镜;后腔镜为镀有对泵浦源发射波长增透并对激光增益介质发射的激光波长高反的光学膜,其高反膜的反射率大于99%;耦合输出镜镀有对激光波长部分透过的光学膜。
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