[发明专利]一种基板清洗设备及基板清洗系统有效

专利信息
申请号: 201210391220.2 申请日: 2012-10-15
公开(公告)号: CN102896104A 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 刘聪聪;金相旭;张建政;徐涛;程晋燕;朱建涛 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
主分类号: B08B3/08 分类号: B08B3/08;B08B3/10;B08B13/00
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例提供一种基板清洗设备及基板清洗系统,涉及显示器制造领域,能够适应性通过补液单元向清洗单元补给清洗液,节省清洗液,缩短基板清洗设备重置的时间,避免流水线上由于两台基板清洗设备同时重置而引起的死机问题。该基板清洗设备包括相互连通的清洗单元和补液单元;设置于清洗单元和补液单元之间的,用于控制液体流动的补液控制装置;与补液控制装置连接,控制补液控制装置动作的控制器。其中,清洗单元,用于存储清洗液对所述基板进行清洗;补液单元,用于存储清洗液向所述清洗单元补充清洗液;控制器,通过控制补液控制装置的动作,控制清洗液在所述补液单元和所述清洗单元之间的流动。
搜索关键词: 一种 清洗 设备 系统
【主权项】:
一种基板清洗设备,其特征在于,包括:相互连通的清洗单元和补液单元;设置于所述清洗单元和所述补液单元之间的,用于控制液体流动的补液控制装置;与所述补液控制装置连接,控制所述补液控制装置动作的控制器;其中,所述清洗单元,用于存储清洗液对所述基板进行清洗;所述补液单元,用于存储所述清洗液向所述清洗单元补充清洗液;所述控制器,通过控制所述补液控制装置的动作,控制所述清洗液在所述补液单元和所述清洗单元之间的流动。
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