[发明专利]透镜阵列、光源装置、投影仪以及光源装置的制造方法有效
| 申请号： | 201210395330.6 | 申请日： | 2012-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN102998886A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 吉田薰 | 申请（专利权）人： | 卡西欧计算机株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/14 | 分类号： | G03B21/14;G03B21/20;G03B21/00;G02B3/00;F21V5/04 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光源用元件的光轴和透镜的光轴容易对位的透镜阵列、采用该透镜阵列的光源装置、采用该光源装置的投影仪、以及光源装置的制造方法。透镜阵列(73)中，将来自多个光源用元件的光聚光的多个透镜部(73b)汇集而形成一体，在多个透镜部(73b)的入射侧，各个透镜部(73b)具有用于多个光源用元件的定位的圆柱部(73c)。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 阵列 光源 装置 投影仪 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种透镜阵列，汇集有将来自多个光源用元件的光分别聚光的多个透镜，其特征在于：各个上述透镜在上述多个透镜的入射侧具有用于上述多个光源用元件的定位的圆柱部。
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