[发明专利]可形成偏酸性两水相体系的两种pH响应再生型聚合物及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201210398570.1 | 申请日： | 2012-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN102875721A | 公开（公告）日： | 2013-01-16 |
| 发明（设计）人： | 曹学君;伏星;刘晶晶 | 申请（专利权）人： | 华东理工大学 |
| 主分类号： | C08F220/06 | 分类号： | C08F220/06;C08F220/34;C08F220/18;C08F2/34;C08F4/40;C08L33/02;B01D11/04 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 200237 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及可形成偏酸性两水相体系的pH响应再生型聚合物P ADB，其粘均分子量为2.05×105g/mol，等电点为3.8，由丙烯酸、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、甲基丙烯酸丁酯为单体（摩尔比为23:7:1）经无规共聚而得到，以及可形成偏酸性两水相体系的pH响应再生型聚合物P MDB，其粘均分子量为1.04×104g/mol，等电点为3.1，由甲基丙烯酸、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、甲基丙烯酸丁酯为单体（摩尔比为19:1:1）经无规共聚而得到。还涉及相关制备方法、形成的两水相体系和应用。本发明的可形成偏酸性两水相体系的两种pH响应再生型聚合物pH可逆溶解，回收率高，从而大大降低工业成本，利于两水相技术的推广，适于大规模推广应用。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 酸性 两水相 体系 ph 响应 再生 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种可形成偏酸性两水相体系的pH响应再生型聚合物P ADB，其特征在于，所述的可形成偏酸性两水相体系的pH响应再生型聚合物P ADB的粘均分子量为2.05×105g/mol，等电点为3.8，由式I所示化合物、式II所示化合物和式III所示化合物经无规共聚而得到，其中所述式I所示化合物、所述式II所示化合物和所述式III所示化合物的投料摩尔比为23：7：1，![]()
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