[发明专利]一种小口径回转轴对称光学元件抛光装置及方法有效

专利信息
申请号: 201210399583.0 申请日: 2012-10-19
公开(公告)号: CN102873643A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 陈逢军;尹韶辉;胡天;余剑武;许志强 申请(专利权)人: 湖南大学
主分类号: B24C3/02 分类号: B24C3/02;B24C7/00;B24C9/00;B24C5/00
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人: 马强
地址: 410082 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种小口径回转轴对称光学元件抛光装置及方法。该装置包括密封容器机构,安装于密封容器机构内腔中的工作台驱动系统,与密封容器机构连接的抛光流体循环系统;密封容器机构内腔上部形成负压空间。抛光时利用负压差的吸流效应使抛光流体吸出、复合负压空穴效应对工件面进行加工,将加工的常压环境转换为负压环境,减少喷射过程中空气干扰,使抛光点缩小,增强微细磨粒的滑擦作用与稳定性;同时负压空穴效应形成强烈的空穴冲击波和高速微射流,提高了工件表面的去除效率。在磨粒切削与空穴冲蚀共同作用下进行材料去除,获得高质量的表面。该装置适用于各种回转对称曲面光学元件的抛光加工,对于自动化加工有很高的实用价值。
搜索关键词: 一种 小口径 回转 轴对称 光学 元件 抛光 装置 方法
【主权项】:
一种小口径回转轴对称光学元件抛光装置,其特征在于,所述装置包括密封容器机构(2),安装于密封容器机构(2)内腔中的工作台驱动系统(1),与密封容器机构(2)连接的抛光流体循环系统(3);所述工作台驱动系统(1)包括伺服升降平台(11),设于伺服升降平台(11)上的伺服旋转平台(12),设于伺服旋转平台(12)上用于固定回转轴对称曲面工件(15)的工件支撑台(13);所述密封容器机构(2)包括圆形支撑台(21),设于圆形支撑台(21)上的密封圆筒(22),套在密封圆筒(22)上部且通过可调定位块(24)与密封圆筒(22)锁紧连接的密封支撑盖(26);所述可调定位块(24)、密封圆筒(22)和密封支撑盖(26)之间由调位密封圈(25)密封;所述密封支撑盖(26)外侧壁上设有伺服摆动电机(27);所述工件支撑台(13)与密封圆筒(22)内壁之间的环隙由旋转密封圈(14)密封,使密封容器机构(2)内腔上部形成密封的负压空间;所述抛光流体循环系统(3)包括内部设有搅拌器(305)的储液箱(304),与储液箱(304)出口连接的吸入管(306),与吸入管(306)连接的摆动管(308),与储液箱(304)进口连接的回流管(303),与回流管(303)连接的吸流泵(302),与吸流泵(302)连接的吸出管(301);所述吸出管(301)与密封支撑盖(26)顶部连通;所述摆动管(308)末端设有限流喷嘴(309);所述摆动管(308)穿过伺服摆动电机(27)中心主轴和密封支撑盖(26)后伸入密封容器机构(2)内腔上部负压空间,其末端限流喷嘴(309)指向工件支撑台(13)的中心;所述摆动管(308)与密封支撑盖(26)之间的环隙由摆动密封圈(28)密封。
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