[发明专利]一种真空控制系统

摘要

本发明公开了一种真空控制系统，应用于半导体器件制造。其中，储能腔室与第一隔离阀并联连接于工作腔室与真空泵之间；第二隔离阀连接于储能腔室与工作腔室之间；第三隔离阀连接于储能腔室与真空泵之间；控制单元与第一隔离阀，第二隔离阀以及第三隔离阀相连，控制第一隔离阀，第二隔离阀以及第三隔离阀的开闭状态。本发明通过储能腔室降低工作腔室抽真空时的初始压力，从而满足较小一级真空泵的抽速要求，解决了现有技术中采用较大真空泵占用空间大其能耗浪费的问题。

主权项

一种真空控制系统，应用于半导体器件制造，其包括工作腔室，真空泵以及第一隔离阀，所述第一隔离阀连接于所述工作腔室与所述真空泵之间，其特征在于，所述真空控制系统还包括：储能腔室，与所述第一隔离阀并联连接于所述工作腔室与所述真空泵之间；第二隔离阀，连接于所述储能腔室与所述工作腔室之间；第三隔离阀，连接于所述储能腔室与所述真空泵之间；以及控制单元，与所述第一隔离阀，第二隔离阀以及第三隔离阀相连，控制所述第一隔离阀，第二隔离阀以及第三隔离阀的开闭状态；其中，当进行硅片装卸动作时，所述控制单元关闭所述第一隔离阀和第二隔离阀、同时打开所述第三隔离阀，使得所述工作腔室与所述真空泵和储能腔室相隔离，所述真空泵对所述储能腔室抽真空使所述储能腔室内的压力小于大气压；当进行硅片加工动作时，所述控制单元打开所述第二隔离阀使得所述工作腔室与真空状态的所述储能腔室相连通而降低所述工作腔室内的压力；当所述工作腔室内的压力下降到预定程度时，所述控制单元关闭所述第二隔离阀及第三隔离阀，且同时打开所述第一隔离阀，所述真空泵对所述工作腔室抽真空。