[发明专利]半导体发光元件及其制造方法无效
申请号: | 201210409068.6 | 申请日: | 2012-10-24 |
公开(公告)号: | CN103682011A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 颜伟昱;周理评;陈复邦;张智松 | 申请(专利权)人: | 联胜光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/14 | 分类号: | H01L33/14;H01L33/10;H01L33/00 |
代理公司: | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人: | 杨波 |
地址: | 中国台湾台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种半导体发光元件及其制造方法,半导体发光元件包括发光的磊晶结构、第一电极结构、光反射层及电阻增加结构。其中,磊晶结构具有相对的第一面及第二面;第一电极结构与第一面电性相接;光反射层与第二面相邻;电阻增加结构与光反射层相邻,并远离第二面,且与第一电极结构之位置相对应。另提供半导体发光元件之制造方法。 | ||
搜索关键词: | 半导体 发光 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体发光元件,其特征在于该半导体发光元件包括:一发光的磊晶结构,具有相对的一第一面及一第二面;一第一电极结构,与该第一面电性相接;一光反射层,与该第二面相邻;以及一电阻增加结构,与该光反射层相邻,并远离该第二面,且与该第一电极结构的位置相对应。
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