[发明专利]感光材料及光刻方法有效
| 申请号： | 201210411699.1 | 申请日： | 2012-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN103365076A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/004;G03F7/039 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及感光材料在负性显影剂中的溶解性的方法和材料。感光材料可以包括作为主链的支链的大于50％的酸不稳定基团。在另一实施例中，处理曝光或照射后的感光材料。示例性处理包括对感光材料应用碱。本发明提供了感光材料及光刻方法。 | ||
| 搜索关键词： | 感光材料 光刻 方法 | ||
【主权项】：
一种图案形成方法，包括：对衬底涂覆感光材料，其中，经过照射后，所述感光材料在负性显影剂中的溶解性降低，并且所述感光材料包括大于约50％的酸不稳定基团；将所述感光材料曝光于辐射束；以及在负性显影剂中显影所述感光材料。
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