[发明专利]一种二极管制造的深扩散工艺无效

专利信息
申请号: 201210412772.7 申请日: 2012-10-25
公开(公告)号: CN103000500A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 陶小鸥;曹孙根 申请(专利权)人: 南通康比电子有限公司
主分类号: H01L21/228 分类号: H01L21/228;H01L21/329
代理公司: 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 代理人: 滑春生
地址: 226500 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种二极管制造的深扩散工艺,主要由以下步骤构成:原硅片清洗、排磷纸、涂硼、双面喷砂、镀镍前清洗、一次镀镍、合金、二次镀镍,其特征在于:所述涂硼工序中硼液配比:乙二醇乙醚:三氧化二硼=10:4;所述在涂硼和双面喷砂之间增加高温扩散工序。本发明节约动力费用和人工费用,而且性能有明显的提高。
搜索关键词: 一种 二极管 制造 扩散 工艺
【主权项】:
一种二极管制造的深扩散工艺,主要由以下步骤构成:原硅片清洗、排磷纸、涂硼、双面喷砂、镀镍前清洗、一次镀镍、合金、二次镀镍,其特征在于:所述涂硼工序中硼液体积配比:乙二醇乙醚:三氧化二硼=10:4;所述在涂硼和双面喷砂工艺之间增加高温扩散工序,所述高温扩散工序为:将第一个载有硅片的石英舟置于炉口用600℃的温度预热30min,用石英钩将石英舟推至1260‑1262℃的恒温区后半段, 将第二舟置于炉口用600℃的温度预热30min,用石英钩将石英舟推至1260‑1262℃的恒温区前半段;调整扩散炉升温速率为5℃/min升温到1262℃,等温度升到1262℃时,开始计时,恒温时间由工程人员确定,降温至600℃并保持该恒温以待下次扩散,用石英钩将第二舟逐渐拉出,每5min拉出5cm,拉至炉口冷却15min后取下,放在石英托架上自然冷却待分片,用上述同样的方法将第一舟从石英管内拉出待分片。
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