[发明专利]过渡金属离子印迹聚合物及其制备方法

摘要

本发明提供的过渡离子印迹聚合物是由分子结构中含有季铵盐和席夫碱配合物单元的功能单体、第二单体和交联剂共聚而成的。其中的席夫碱配合物指的是水杨醛缩氨基Q甲酸与过渡金属离子形成色泽各异、荧光增强或淬灭的配合物；其中季铵盐具有强亲水性，提高所述离子印迹聚合物的水浸润性，有利于快速到达过渡金属离子的吸附平衡，克服了现有分子印迹聚合物空穴内部憎水性强，吸附平衡时间长的缺陷。

主权项

1.一种过渡金属离子印迹聚合物，指的是高分子主链侧接季铵盐和席夫碱配体单元的过渡金属离子印迹聚合物，所述的过渡金属离子印迹聚合物是以分子结构中含有季铵盐和席夫碱配合物单元的功能单体、第二单体和交联剂为原料，通过自由基共聚反应制得的；其中所述的功能单体选自通式(I_A)、通式(I_B)或通式(I_C)中的一种：通式(I_A)通式(I_B)通式(I_C)通式(I_A)、通式(I_B)或通式(I_C)中的R选取H或甲基；Y选取O或NH；n选取2、3、4、5或6中的一种，R₁和R₂分别选取C₁～C₁₈烷基中的一种，R₃选取C₃～C₁₈不饱和烷基；Q选取C₆～C₁₂芳基或ZCH，所述的Z选取H、C₁～C₁₂烷基或C₆～C₁₂芳基中的一种；M指的是过渡金属离子，L选自水、甲醇、乙醇、丙酮、丙烯酰胺、2-甲基丙烯酰胺、丙烯酰肼、2-甲基丙烯酰肼、丙烯酸、2-甲基丙烯酸、1-乙烯基咪唑、1-烯丙基咪唑、4-乙烯基吡啶、2-乙烯基吡啶、N-(4-乙烯基苯基)亚胺双乙酸、烯丙基磺酸或5-乙烯基水杨醛中的一种或两种以上；m选自0、1、2或3中的一种；X^-选自F^-、Cl^-、Br^-、I^-、HSO₄^-、H₂PO₄^-或CH₃COO^-中的一种；所述的第二单体选自苯乙烯、丙烯腈、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、顺丁烯二酸酐或醋酸乙烯酯中的一种或两种以上；所述的交联剂选自二乙烯基苯、双丙烯酸乙二醇酯、双甲基丙烯酸乙二醇酯、双丙烯酸二缩乙二醇酯、双甲基丙烯酸二缩乙二醇酯、双丙烯酸三缩乙二醇酯、双甲基丙烯酸三缩乙二醇酯、1，4-丁二醇双丙烯酸酯、1，4-丁二醇双甲基丙烯酸酯、1，6-己二醇双丙烯酸酯、1，6-己二醇双甲基丙烯酸酯、1，10-葵二醇双丙烯酸酯、1，10-葵二醇双甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、四丙烯酸季戊四醇酯、四甲基丙烯酸季戊四醇酯、异氰尿酸三丙烯酯、二甲基二烯丙基氯化铵或二乙基二烯丙基氯化铵中的一种或两种以上。