[发明专利]一种在钙钠玻璃表面形成耐久性双层减反射薄膜的方法无效

专利信息
申请号: 201210416610.0 申请日: 2012-10-25
公开(公告)号: CN102910835A 公开(公告)日: 2013-02-06
发明(设计)人: 李佳;鲁越晖;兰品军;张贤鹏;宋伟杰 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34
代理公司: 宁波奥圣专利代理事务所(普通合伙) 33226 代理人: 程晓明
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种在钙钠玻璃表面形成耐久性双层减反射薄膜的方法,包括以下步骤:1)在反应腔中通入金属氧化物的前驱体和水蒸气发生反应得到反应产物,采用原子层沉积法将反应产物同时沉积在钙钠玻璃基底的两个表面得到高折射率氧化物薄膜;2)以硅源、溶剂及催化剂为原料,配制硅溶胶;3)采用涂覆技术将步骤2)中配制得到的硅溶胶涂覆于步骤1)中得到的钙钠玻璃基底的表面,从而在高折射率氧化物薄膜上再形成SiO2薄膜;4)最后对钙钠玻璃表面的高折射率氧化物薄膜和SiO2薄膜进行固化处理,得到具有耐久性双层减反射薄膜的钙钠玻璃。本发明方法成本低、适合大规模应用,采用该方法在钙钠玻璃表面形成的双层薄膜具有优良的减反射效果和耐久性。
搜索关键词: 一种 玻璃 表面 形成 耐久性 双层 反射 薄膜 方法
【主权项】:
一种在钙钠玻璃表面形成耐久性双层减反射薄膜的方法,其特征在于包括以下步骤: 1)在反应腔中通入金属氧化物的前驱体和水蒸气发生反应得到反应产物,采用原子层沉积法将反应产物同时沉积在钙钠玻璃基底的两个表面得到高折射率氧化物薄膜,沉积过程中钙钠玻璃基底的温度为25~300℃,反应腔中沉积室的气压为100~150Pa;2)以硅源、溶剂及催化剂为原料,配制硅溶胶;3)采用涂覆技术将步骤2)中配制得到的硅溶胶涂覆于步骤1)中得到的钙钠玻璃基底的表面,从而在高折射率氧化物薄膜上再形成SiO2薄膜;4)最后对钙钠玻璃表面的高折射率氧化物薄膜和SiO2薄膜进行固化处理,得到具有耐久性双层减反射薄膜的钙钠玻璃。
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