[发明专利]离子注入设备自动清洁离子腔体以提高部件寿命的方法在审
| 申请号： | 201210417823.5 | 申请日： | 2012-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN103785647A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 孙建军 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 王函 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种离子注入设备自动清洁离子腔体以提高部件寿命的方法，包括如下步骤：1）使用氟化物气体作为清洁气体导入离子注入腔体；2）反应时需控制腔体压力以维持充分的等离子体；3）用离子源灯丝进行加热和氟离子化，氟离子和离子注入腔中积累的离子注入掺杂残留物质发生化学反应；4）反应后反应物气体用真空泵进行去除。本发明通过引入氟离子与残留物质进行反应而达到自动清洁的效果，因此而达到增加机台利用率和节省成本以及减少机台颗粒水平。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 设备 自动 清洁 提高 部件 寿命 方法 | ||
【主权项】：
一种离子注入设备自动清洁离子腔体以提高部件寿命的方法，其特征在于：包括如下步骤：1）使用氟化物气体作为清洁气体导入离子注入腔体；2）反应时需控制腔体压力以维持充分的等离子体；3）用离子源灯丝进行加热和氟离子化，氟离子和离子注入腔中积累的离子注入掺杂残留物质发生化学反应；4）反应后反应物气体用真空泵进行去除。
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