[发明专利]用于等离子体处理腔室内部的部件及制造方法有效
| 申请号： | 201210421401.5 | 申请日： | 2012-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN103794458A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 贺小明;万磊;徐朝阳;杨平;张翰廷 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/44 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于等离子体处理腔室的部件的增强型涂层，所述增强型涂层形成于未密封的阳极化处理表面上。在涂层形成之后，对涂覆了涂层的区域执行掩膜，并对剩余的阳极化处理表面进行密封。被阳极化处理的但未被密封的铝的多孔的和粗糙的结构增强了涂层的粘附力。然而，为了防止颗粒污染产生，曝露的阳极处理化表面在涂层形成之后被密封。涂层可为氧化钇，其由等离子体增强型原子沉积技术制造，以形成一致密和光滑的涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 处理 内部 部件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于等离子体处理腔室内部的部件，其中，包括：具有阳极化处理外表面的部件主体；直接形成于所述阳极化处理外表面的一部分上的含氧化钇涂层；以及，形成于所述阳极化处理外表面中没有覆盖含氧化钇涂层的部分的密封剂。
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